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BS ISO 17331:2004
表面化學(xué)分析 從硅晶片工作標(biāo)準(zhǔn)材料表面收集元素的化學(xué)方法及其通過(guò)全反射 X 射線熒光 (TXRF) 光譜法測(cè)定

Surface chemical analysis. Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

2005-03

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
BS ISO 17331:2004
發(fā)布
2005年
發(fā)布單位
SCC
替代標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 17331:2004+A1:2010
當(dāng)前最新
BS ISO 17331:2004+A1:2010
 
 
適用范圍
交叉引用: ISO 5725-2:1994 ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000

標(biāo)準(zhǔn)

專題

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