ASTM E407-23
微蝕金屬和合金的標準實施規(guī)程
Standard Practice for Microetching Metals and Alloys
- 標準號
- ASTM E407-23 中文首頁
- 發(fā)布
- 2023年
- 總頁數(shù)
- 22頁
- 發(fā)布單位
- 美國材料與試驗協(xié)會
- 當(dāng)前最新
- ASTM E407-23
- 引用標準
- ASTM E2014 ASTM E7
- 適用范圍
- 1.1 本規(guī)范涵蓋了用于蝕刻金屬和合金進行顯微鏡檢查的化學(xué)溶液和程序。還包括安全預(yù)防措施和其他信息。
1.2 本標準并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責(zé)任在使用前制定適當(dāng)?shù)陌踩?、健康和環(huán)境規(guī)范并確定監(jiān)管限制的適用性。有關(guān)具體警告聲明，請參閱 6.1 和表 2。
1.3 本國際標準是根據(jù)世界貿(mào)易組織技術(shù)貿(mào)易壁壘 (TBT) 委員會發(fā)布的《關(guān)于制定國際標準、指南和建議的原則的決定》中確定的國際公認的標準化原則制定的。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| tint etch tint etch | 一種通過薄氧化物、硫化物、鉬酸鹽、鉻酸鹽或元素硒薄膜產(chǎn)生顏色對比的沉浸式腐蝕劑，通常選擇性地針對顯微結(jié)構(gòu)中的特定成分。這種薄膜由于光干涉效應(yīng)而揭示了微觀結(jié)構(gòu)。 |
| vapor-deposition interference layer method vapor-deposition interference layer method | 通過真空沉積一層具有已知折射率的介質(zhì)化合物（如ZnTe、ZnSe、TiO2、ZnS或ZnO）來增強顯微結(jié)構(gòu)成分之間對比度的方法，通常產(chǎn)生彩色對比。 |
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