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二次電子分辨率高

本專題涉及二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)有28條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，二次電子分辨率高涉及到分析化學(xué)、電車、金屬材料試驗(yàn)、空氣質(zhì)量、導(dǎo)體材料。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，二次電子分辨率高涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、焊接與切割設(shè)備、物性分析儀器、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法。

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• ISO/TS 22933:2022 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜法.模擬離子質(zhì)譜中質(zhì)量分辨率的測量方法
• ISO 17974:2002 表面化學(xué)分析.高分辨率螺旋電子光譜儀.元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法
• ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
• ISO 13083:2015 表面化學(xué)分析. 掃描式探針顯微術(shù). 電子掃描式探針顯微術(shù) (ESPM), 例如用于二維摻雜成像等用途的SSRM和SCM, 中空間分辨率的定義和校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 20341:2003(2010) 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 多δ層參考材料估計(jì)深度分辨率參數(shù)的方法
• BS ISO 17974:2002(2010) 表面化學(xué)分析 高分辨率俄歇電子能譜儀 元素和化學(xué)態(tài)分析能級的校準(zhǔn)

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• JIS K 0169:2012 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜(SIMS).帶多重亞鉛層對照物的深度分辨率參數(shù)估算方法
• JIS K 0166:2011 表面化學(xué)分析.高分辨率螺旋電子光譜儀.元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• KS C ISO 12405-1:2012 電動車用鋰二次電池/系統(tǒng)評估.第1部分:高功率用電池
• KS D ISO 17974-2011(2021) 表面化學(xué)分析——高分辨率俄歇電子光譜儀——元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)
• KS D ISO 17974-2011(2016) 表面化學(xué)分析高分辨率俄歇電子能譜儀元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)
• KS D ISO 17974:2011 表面化學(xué)分析.高分辨率螺旋電子光譜儀.元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• ASTM F1710-97 使用高分辨率發(fā)光質(zhì)譜儀測試電子級鈦中痕量金屬雜質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM F1710-97(2002) 使用高分辨率發(fā)光質(zhì)譜儀測試電子級鈦中痕量金屬雜質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM F1593-08(2016) 使用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜儀測定電子級鋁中痕量金屬雜質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM F1710-08(2016) 使用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜儀測定電子級鈦中痕量金屬雜質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM F1845-08(2016) 采用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜儀測定電子級鋁銅, 鋁硅和鋁銅硅合金中的痕量金屬雜質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 17974:2002 表面化學(xué)分析.高分辨率螺旋電子光譜儀.元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• BS ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
• 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
• BS ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
• BS ISO 13083:2015 表面化學(xué)分析. 掃描式探針顯微術(shù). 電子掃描式探針顯微術(shù) (ESPM), 例如用于二維摻雜成像等用途的SSRM和SCM, 中空間分辨率的定義和校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• NF ISO 17974:2009 表面化學(xué)分析 高分辨率俄歇電子能譜儀 用于元素和化學(xué)狀態(tài)分析的能量標(biāo)度校準(zhǔn)
• NF X21-067*NF ISO 17974:2009 表面化學(xué)分析.高分辨率俄歇(Auger)電子分光計(jì).元素及化學(xué)物質(zhì)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• AS ISO 17974:2006 表面化學(xué)分析．高分辨率俄歇電子分光計(jì)法．元素及化學(xué)物質(zhì)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度校準(zhǔn)

RU-GOST R，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• GOST R ISO 16000-14-2013 室內(nèi)空氣. 第14部分. 總體(氣體和粒子相)聚氯聯(lián)二苯(PCB)和多氯代二苯并二惡英/多氯代二苯并呋喃(PCDD/PCDF)的測定. 使用高分辨率氣象色譜和質(zhì)譜分析法進(jìn)行的提取, 清理和分析

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于二次電子分辨率高的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 41064-2021 表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

本站其他標(biāo)準(zhǔn)專題： 二次電子分辨率高，二次電子分辨率為什么高，分辨率 半高，質(zhì)譜分辨率高，光譜 分辨率 半高，二次電子分辨率，二次電子 分辨率，二次電子和俄歇電子哪個(gè)分辨率高，二次電子分辨率多少，為什么俄歇電子分辨率高。

 

可能用到的儀器設(shè)備