GB/T 41153-2021
碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的測定 二次離子質(zhì)譜法
Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
GBT41153-2021, GB41153-2021
說明：
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- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GB/T 41153-2021
- 別名
- GBT41153-2021
GB41153-2021 - 發(fā)布
- 2021年
- 發(fā)布單位
- 國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
- 當(dāng)前最新
- GB/T 41153-2021
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 14264 GB/T 22461 GB/T 32267
本文件規(guī)定了碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的二次離子質(zhì)譜測試方法。 本文件適用于碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的定量分析,測定范圍為硼含量不小于5×1013 cm-3、鋁含量不小于5×1013cm-3、氮含量不小于5×1015cm-3,元素濃度(原子個數(shù)百分比)不大于1%。 注1:碳化硅單晶中待測元素的含量以每立方厘米中的原子數(shù)計(jì)。 注2:碳化硅單晶中釩雜質(zhì)...