ISO 17331:2004
表面化學分析.從硅片工作基準材料表面采集元素的化學方法及其全反射X射線熒光光譜法的測定
Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
- 標準號
- ISO 17331:2004
- 發(fā)布
- 2004年
- 中文版
- GB/T 30701-2014 (等同采用的中文版本)
- 發(fā)布單位
- 國際標準化組織
- 替代標準
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 當前最新
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- 引用標準
- ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000 ISO 5725-2:1994
- 適用范圍
- 本國際標準規(guī)定了采用氣相分解法或直接酸滴分解法從硅晶片工作標準材料表面收集鐵和/或鎳的化學方法。 本國際標準適用于鐵和/或鎳原子表面密度為 6 × 109 個原子/cm2 至 5 × 1011 個原子/cm2 的鐵和/或鎳。
專題
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